口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師考點(diǎn)之口腔修復(fù)學(xué)

1.開口度及開口型：開口度是指患者大張口時(shí)，上下中切牙切緣之間的垂直距離，可用雙 腳規(guī)或游標(biāo)尺測(cè)量；正常的開口型下頜向下后方，左右無偏斜，正面觀直向下。 

2.下頜側(cè)方運(yùn)動(dòng)：下頜最大側(cè)方運(yùn)動(dòng)范圍正常情況下約為 12 mm。 

3.口腔修復(fù)前的一般處理（急拆衛(wèi)?。?（1）處理急性癥狀。（2）保證良好的口腔衛(wèi)生。（3）拆除不良修復(fù)體。（4）治療和控制齲病及牙周病。 

4.余留牙的保留與拔除：對(duì)于牙槽骨吸收達(dá)到根 2／3 以上，牙松動(dòng)達(dá)Ⅲ度者應(yīng)拔除。 

5.對(duì)雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)肥大的情況，常常只需修整一側(cè)上頜結(jié)節(jié)，解決妨礙義齒就位的問題即 可。

6.抗力形是指在完成修復(fù)后，要求修復(fù)體和患牙均能抵抗力而不致被破壞或折裂。 

7.設(shè)計(jì)齦下邊緣時(shí)，要注意修復(fù)體邊緣的密合、拋光，防止形成懸突，而且冠邊緣不要到 達(dá)齦溝底，一般要求齦邊緣距齦溝底至少 0.5 mm。

8.為了便于修復(fù)體的取戴，各軸面可向切方稍許聚合，以 2°~5°為宜。 

9.影響?zhàn)ぶΥ笮〉囊蛩?（1）黏著力與黏著面積成正比。（2）黏著力與黏固劑的厚度成反比。（3）黏固劑的稠度應(yīng)適當(dāng)，過稀過稠都影響?zhàn)ぶ?。?）修復(fù)體或制備牙的黏著面上有水分、氧化物、油質(zhì)殘?jiān)犬愇铮紩?huì)影響?zhàn)ぶΑ?nbsp;

10.樁核冠修復(fù)的適應(yīng)證 （1）牙冠大部分缺損無法充填治療或做全冠修復(fù)固位不良者。（2）牙冠缺損至齦下，牙周健康，牙根有足夠的長(zhǎng)度，經(jīng)牙冠延長(zhǎng)術(shù)或正畸牽引術(shù)后能暴 露出斷面以下最少 1.5 mm者。（3）錯(cuò)位牙、扭轉(zhuǎn)牙而非正畸治療適應(yīng)證者。（4）作固定義齒的固位體的殘冠殘根。 

11.根管充填后選擇樁核冠修復(fù)的時(shí)間，參考治療情況和全身狀況而定。（1）有根尖周炎的患者一般完善的根管治療后，觀察 1~2 周，無臨床癥狀后可以開始修 復(fù)。（2）原牙髓正常或牙髓炎未累及根尖者，觀察時(shí)間可短，根管治療 3 天后無癥狀，可開 始修復(fù)。（3）有瘺管的患牙需在治療愈合后進(jìn)行修復(fù)。（4）如果根尖病變較廣泛者，需在治療后觀察較長(zhǎng)時(shí)間，待根尖病變明顯縮小，形成骨 硬板后才能修復(fù)。 

12.關(guān)于金瓷結(jié)合的機(jī)制有四種結(jié)合方式：①化學(xué)結(jié)合；②機(jī)械結(jié)合；③壓應(yīng)力結(jié)合；④ 范德華力結(jié)合。其中化學(xué)結(jié)合被大多數(shù)研究者認(rèn)為是金瓷結(jié)合中最主要、最關(guān)鍵的結(jié)合機(jī)制。 

13.樁核冠的樁的長(zhǎng)度：為確保根管治療效果和預(yù)防根折，一般要求根尖部保留 4 mm 的充 填材料，樁的長(zhǎng)度為根長(zhǎng)的 2／3~3／4。 

14.對(duì)于根比較短的情況，應(yīng)盡量保證讓樁核冠的樁的長(zhǎng)度大于等于臨床冠的長(zhǎng)度，并且保 證樁處于牙槽骨內(nèi)的長(zhǎng)度大于根在牙槽骨內(nèi)的總長(zhǎng)度的 1／2。

15.理想的樁直徑應(yīng)為根徑的 1／3，最好不要超過 1/2。

16.樁核冠的冠邊緣以上的大于 1.5 mm 的牙本質(zhì)稱為牙本質(zhì)肩領(lǐng)。 

17.印模時(shí)，托盤內(nèi)面與組織面之間有 3~4 mm 間隙，托盤邊緣止于黏膜皺襞 2 mm。

18.冠就位的標(biāo)志 （1）冠的齦邊緣到達(dá)設(shè)計(jì)的位置，有肩臺(tái)預(yù)備的頸緣應(yīng)與冠邊緣密合，無明顯縫隙。（2）制備良好的人造冠就位后，咬合應(yīng)基本合適，或稍加修整即合適。（3）人造冠在患牙上就位后不出現(xiàn)翹動(dòng)現(xiàn)象。 

19.人造冠邊緣與牙體組織間無明顯縫隙，允許的微小間隙不超過 50 μm。 

20.粘固劑厚度：其最大厚度一般不得超過 30 μm，否則會(huì)增加厚度而使修復(fù)體粘固后加高 咬合。 

21.修復(fù)體粘固后短期內(nèi)出現(xiàn)咬合痛，多是由咬合創(chuàng)傷引起。 

22.上頜牙槽嵴吸收的方向是向上、向內(nèi)，上頜骨的外形逐漸縮小。下頜牙槽嵴的吸收方向 是向下、向外，結(jié)果使下牙弓外形逐漸變大，上下頜間距離減短，面下 1／3 距離也隨之變 短。

23.腭小凹：上頜全口義齒的后緣應(yīng)在腭小凹后 2 mm 處。 

24.顫動(dòng)線：前后顫動(dòng)線之間稱后堤區(qū)。此區(qū)寬 2~12 mm，平均 8.2 mm，有一定的彈性， 能起到邊緣封閉作用。 

25.翼上頜切跡：為上頜全口義齒后緣的界限。 

26.磨牙后墊：下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊 1／2 或全部。磨牙后墊可作為指導(dǎo)排列 人工后牙的標(biāo)志。從垂直向看磨牙后墊可決定下頜平面的位置。下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙 后墊的 1／2 等高。從前后向看，下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣。從頰舌向看，磨牙后 墊頰面、舌面向前與下頜尖牙的近中面形成一個(gè)三角形，一般情況下，下頜后牙的舌尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)。

27.模型邊緣厚度以 3~5 mm 為宜，模型最薄處也不能少于 10 mm。 

28.模型后緣應(yīng)在腭小凹后不少于 2 mm，下頜模型在磨牙后墊自其前緣起不少于 10 mm。 

29.模型形成的方法有圍模灌注法和二次灌注法兩種。 

30.確定垂直頜位關(guān)系的方法 （1）息止頜位法。（2）面部外形觀察法。（3）面部垂直距離等分法。（4）拔牙前垂直距離的記錄。（5）舊義齒垂直距離的記錄。 

31.上前牙的位置要襯托出上唇豐滿度，要達(dá)到此要求有以下幾點(diǎn)可作參考：（1）上前牙唇面至切牙乳突中點(diǎn)一般 8~10 mm。（2）年輕人，上尖牙頂連線通過切牙乳突中點(diǎn)，而老年人上尖牙頂連線與切牙乳突后緣平 齊。（3）上尖牙的唇面通常與腭皺的側(cè)面相距 10.5±1 mm。（4）上前牙切緣在唇下露出 2 mm，年老者露的較少。 

32.缺牙區(qū)傷口愈合：一般在拔牙后 3 個(gè)月，待拔牙創(chuàng)口完全愈合，牙槽嵴吸收基本穩(wěn)定后 制作固定義齒。 

33.缺牙區(qū)牙槽嵴吸收：牙槽嵴吸收過多的后牙區(qū)，可設(shè)計(jì)衛(wèi)生橋。 

34.固定義齒的組成及各部分的作用 （1）固位體：是指粘固于基牙上的嵌體、部分冠、全冠等。（2）橋體：即人工牙，是固定橋修復(fù)缺失牙形態(tài)和功能的部分。（3）連接體：是固定橋橋體與固位體之間的連接部分。 

35.固定義齒的基牙臨床冠根比例以 1∶2~2∶3 較為理想；1∶1 是選擇基牙的最低限度。 

36.固定義齒在選擇基牙時(shí)，應(yīng)從 X 線片上檢查基牙牙槽骨的骨質(zhì)致密度和牙槽骨有無吸收。若牙槽骨的吸收超過根長(zhǎng)的 1／3，就不宜選作基牙。 

37.固定義齒以固定義齒的基牙決定基牙的數(shù)量：Ante 曾提出固定橋基牙牙周膜面積的總和 應(yīng)等于或大于缺失牙牙周膜面積的總和，即基牙的數(shù)量應(yīng)根據(jù)基牙與缺失牙牙周膜面積的大 小來衡量。

38.固定義齒的基牙傾斜要小于 30°。 

39.懸空式橋體：橋體與黏膜不接觸，留有至少固定義齒的基牙以上的間隙。 

40.固定連接體的設(shè)計(jì)：其截面積不小于 4 mm2。

41.基托厚度：塑料基托一般厚約 2 mm。鑄造金屬基托厚約 0.5 mm。 

42.卡環(huán)的結(jié)構(gòu)和各部分的作用：以三臂卡環(huán)為例，由卡環(huán)臂、卡環(huán)體、支托三部分組成。（1）卡環(huán)臂：卡環(huán)臂尖位于倒凹區(qū)，產(chǎn)生固位作用，可防止義齒向脫位。（2）卡環(huán)臂起始部分較堅(jiān)硬，位于非倒凹區(qū)起穩(wěn)定作用，防止義齒側(cè)向移位。（3）卡環(huán)體：為連接卡環(huán)臂、支托及小連接體的堅(jiān)硬部分，位于基牙軸面角的非倒凹區(qū)， 有穩(wěn)定和支持義齒的作用。（4）支托：是卡環(huán)伸向基牙面而產(chǎn)生支持作用的部分，防止義齒齦向移位。 

43.可摘局部義齒的禁忌證 （1）缺牙間隙過窄，義齒強(qiáng)度不夠。（2）基牙呈錐形，固位形態(tài)過差，義齒不能獲得足夠的固位力。（3）因意識(shí)或精神障礙,或行動(dòng)障礙而生活不能自理的患者，患者易將義齒誤吞。（4）口腔黏膜潰瘍經(jīng)久不愈者。

44.RPA 卡環(huán)組與 RPI 卡環(huán)組的不同點(diǎn)是以圓環(huán)形卡環(huán)的固位臂代替Ⅰ桿。 

45.前腭桿：位于上頜硬區(qū)之前，腭皺襞之后，薄而寬，與黏膜組織密合但無壓力，離開齦 緣至少 6 mm。

46.后腭桿：位于上頜硬區(qū)之后，顫動(dòng)線之前，兩端微彎向前至第一、第二磨牙之間。

47.側(cè)腭桿：位于上頜硬區(qū)的兩側(cè)，離開齦緣應(yīng)有 4~6 mm，并且與牙弓平行。 

48.舌桿：上緣離開牙齦緣至少 3~4 mm。舌桿適用于口底有一定深度，舌側(cè)無明顯倒凹者。 

49.基牙倒凹的深度和坡度：坡度越大固位越好，標(biāo)準(zhǔn)倒凹深度應(yīng)小于 1 mm，倒凹的坡度 一般應(yīng)大于20°。 

50.牙列缺損的 Kennedy 分類 第一類：雙側(cè)缺隙位于余留牙的遠(yuǎn)中，即雙側(cè)遠(yuǎn)中游離缺失。第二類：?jiǎn)蝹?cè)缺隙位于一側(cè)余留牙的遠(yuǎn)中，即單側(cè)遠(yuǎn)中游離缺失。第三類：缺隙位于牙弓一側(cè)，缺隙前后均有余留牙，即單側(cè)非游離缺失。第四類：?jiǎn)蝹€(gè)越過中線的缺隙，位于所有余留牙的近中。

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